氨逃逸高的原因：

　　

　　氨逃逸是影響系統(tǒng)運行的一項重要參數(shù)，實際生產(chǎn)過程中通常是多于理論量的氨到達反應器，反應后在煙氣下游多余的氨稱為氨逃逸，氨逃逸是通過單位體積內(nèi)氨含量來表示的。為了達到環(huán)保要求，往往需要一定過量的氨，所以也對應著會有一個合適的氨逃逸值，該值設計為不大于5ppm，但是往往實際運行中偏大，主要有以下因素：

　　

　?。?）每只氨噴槍噴氨流量分布不均，煙氣中存在氨水局部分布不均，煙氣流速不均勻，各噴槍出口的噴氨量差異較大，濃度高的地方氨逃逸相對高一些。

　　

　　（2）煙氣溫度，反應溫度過低，NOx與氨的反應速率降低，會造成NH?的大量逃逸，但是，反應溫度過高，氨又會額外生成NO，所以，NH?存在反應溫度，在氨的反應溫度800-1100℃；反應器是以活性成分為WO3和V2O5為催化劑蜂窩裝模塊，還原劑為來自上游系統(tǒng)的氨逃逸作為還原劑，在催化劑的作用下，氨水與NOx在315~380℃的溫度區(qū)間內(nèi)反應，生成氮氣和水，達到脫硝的目的，如果溫度過高過低達不到反應效果，勢必增加氨逃逸。

　　

　　（3）催化劑堵塞，脫硝效率下降，為了保持環(huán)保參數(shù)不超標，會噴更多的氨，這將引起惡性循環(huán)，催化劑局部堵塞、性能老化，導致催化劑各處催化效率不同，為了控制出口參數(shù)，只能增加噴氨量，從而導致局部氨逃逸升高。

　　

　?。?）霧化風量偏小，噴槍霧化不好，氨水與煙氣不能充分混合，將產(chǎn)生大量的氨逃逸。

　　

　?。?）氨水濃度，氨水濃度配置，濃度高低無法受控，憑著感覺配置，就目前C鍋爐而言，基本上氨水濃度高，氨水調(diào)閥開度過小，霧化不好易自關(guān)，導致氨逃逸高，操作難度大。

　　

　?。?）燃燒波動時，入口煙氣中的NOX濃度大幅波動，往往會加大噴氨量，機械地實現(xiàn)“達標排放”，過量的氨水，可導致氨逃逸增加，直接危及爐后設備和系統(tǒng)安全運行。